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    晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F

    • 產品型號:
    • 更新日期:2025-02-20

    簡要描述:晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F GR312F,熱門型號是GR-511F,又稱壓力自動調節閥,
    用于半導體晶圓生產中晶圓背面壓力的控制器,實現冷卻系統的冷卻功能。

    產品詳情

    晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F

    控制壓力10torr、20torr、50torr


    晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F又稱壓力自動調節閥,

    用于半導體晶圓生產中晶圓背面的微小壓力控制,實現冷卻系統的冷卻功能,減少晶圓的熱損傷。

     

     晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F是壓力控制器GR500F系列中的熱門型號,是壓力自動調節閥GR-312F的升級產品,穩定性更好,滿足晶圓生產中更嚴格的工藝要求。


    晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F最小壓力控制器可以到1.3kpa.


    特征

    • GR-511F是GR-312F的升級產品,Wafer背壓控制;

    • 壓力控制更穩定、精度0.5%

    • 可選擇流量信號反饋;

    • RoHS 認證



    技術參數

     

    型號

    GR-511F

    閥門類型

    C: 常閉

    泄漏率

    ≤ 7 ×   10-11 Pa·m3 /s (He)

    工作壓力上限

    300   kPa (A)

    耐壓

    350   kPa (A)

    工作溫度

    5-50   °C (Accuracy guaranteed temp : 15-40 °C)

    電源

    +15   VDC±5 %, 250 mA -15 VDC±5 %, 250 mA

    功率

    7.5 VA

    輸出信號

    Analog

    氣體 *1

    He,   Ar, N2

    接口

    1/4   inch VCR

    壓力量程

    1.333   kPa (A) (10 Torr),

    2.666   kPa (A) (20 Torr),
      6.666 kPa (A) (50 Torr)

    壓力控制范圍

    1-100   %F.S.

    精度 *2

    ±0.5   %R.S.

    零點/溫度系數

    ±0.04   %F.S./°C

    量程/溫度系數

    ±0.04   %R.S./°C

    相應時間*3

    ≤ 1   sec

    輸入模擬信號

    0.1-10   VDC (1-100 %F.S.) Input impedance ≥ 1 MΩ
      Option:0.05-5 VDC (1-100 %F.S.) Input impedance≥ 1 MΩ

    輸出模擬信號

    0-10   VDC (0-100 %F.S.) Minimum resistance 2 kΩ
      Option:0-5 VDC (0-100 %F.S.) Minimum resistance 2 kΩ

    流量滿量程 *1

    20,   50, 100 SCCM

    流量精度 *4 *5

    ±1   %R.S. (Flow rate > 25 %F.S.)
      ±0.25 %F.S. (Flow rate ≤ 25 %F.S.)

    流量輸出信號

    0-5   VDC (0-100 %F.S.) Minimum resistance 2 kΩ

    材質

    SUS316L

    安裝方向 *6

    Free

    重量*7

    1.5 kg












    實物圖片

    GR-511F、IGS接口14C3


    晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F




    應用案例

    晶圓背部壓力控制器Horiba GR-511F



    熱門型號:GR312F、GR314F、GR317F、GR511F、GR-224FD

    UR-Z712M、UR-Z712M-B、UR-Z722M、UR-Z722M-B、UR-Z732M、UR-Z732M-B、UR-Z714M-B、UR-Z724M-B、UR-Z734M-B。


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    HORIBA 是氣體和液體質量流量控制器制造商之一,擁有一系列模擬、數字和高溫質量流量控制器以及使用點液體源汽化控制和輸送系統。

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